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        CIF粉體等離子清洗機CPCP-F系列

          CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。

          更新時間:2022-01-11 11:34:37
        1. 詳細信息

        CIF專為處理粉體如粉狀、顆粒狀材料樣品而設計的粉體專用等離子清洗機,可以高效率地處理微細的甚至分子級別的超細粉體材料,改變傳統真空等離子清洗機無法處理粉體樣品的問題。

        等離子體作用在粉體上,可以有目的地改變粉體的物理化學性質,在保持粉體原有性能的前提下,賦予其表面新的性能,使其表面性質由疏水性變為親水性或由親水變為疏水性,從而改善粉體粒子表面的浸潤性,增強粉體粒子在介質中的界面相容性,使粒子容易分散在水中或有機化合物中。粉體材料表面改性是材料制備,新材料、新工藝和新產品開發的重要方法,提高了粉體材料的附加價值,擴大了粉體材料的應用領域。

        CIF推出CPCP-F系列粉體等離子清洗機主要通過內置帶攪拌功能的石英轉動樣品瓶進行粉體樣品處理,采用雙浮子流量計氣體輸送控制,主要特點是專業、簡單、經濟實用、處理均勻、快速高效、動態清洗,無死角、無污染。

         

        技術參數

        型號

        CPCP-F

        CPCP-Fplus

        艙體尺寸

        D200XΦ155mm

        D200XΦ155mm

        艙體容積

        3.8L

        3.8L

        石英轉瓶尺寸

        Φ75xH120mm

        Φ75xH120mm

        轉瓶轉速

        1-15rpm/秒可調

        1-15rpm/秒可調

        射頻電源

        40KHz

        13.56MHz

        匹配器

        自動匹配

        自動匹配

        射頻功率

        10-300W可調

        10-150W可調

        氣體控制

        雙浮子流量計

        產品尺寸

        L425xW420xH465mm

        時間設定

        1-99分59秒

        氣體穩定時間

        1分鐘

        真空度

        100pa以內

        激發方式

        電容式


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